※本書はオンデマンド印刷版となります。
(装丁の変更のみ、内容は発刊当時のものと変わりありません。)

■体裁:B5判/224ページ
■発刊:1989/03/31
■ISBNコード:

【監修】
大見忠弘、新田雄久

【目次】

<第1編ガス供給システム>
1.　ガス純化技術(H2, Ar, He, N2, 及びフィルタ内蔵純化装置)　　　
　まえがき　　
　1.　プロセスの動向　　
　2.　クリーンな反応雰囲気を実現する条件　　
　3.　超高純度ガス供給系に必要な要素技術　　
　4.　パーティクル及び外部リーク評価　　
　5.　ガス純化技術とその評価　　
　むすび　　
2.　超高感度ガス評価技術　　　
　1.　緒言　　
　2.　APIMSの概要　　
　　　2.1　原理
　　　2.2　装置
　　　2.3　分析手法
　3.　超高純度ガス供給システム評価の実際　　
　　　3.1　水素ガス供給系
　　　3.2　窒素ガス供給系
　　　3.3　アルゴンガス供給系
　　　3.4　配管部品
　4.　緒言　　
3.　ガス供給系の高純度化　　　
　1.　はじめに　　
　2.　ステンレス材料からのガス放出　　
　　　2.1　真空シャンバー
　　　2.2　ステンレス配管
　　　2.3　ダイアフラムバルブからのガス放出
　3.　インラインガスフィルタからのガス放出　　
　4.　石英管からのガス放出　　
　5.　吸着剤(ゼオライト)ガス放出テスト　　
　6.　まとめ　　
4.　配管系ガス置換特性　　　
　はじめに　　
　1.　流体の流れとガス置換　　
　　　1.1　管内流れと滞留時間分布
　　　1.2　非理想流れのモデル
　　　1.3　滞留部(Dead Space)における流体の置換
　2.　半導体製造プロセス用バルブおよびフィルタのガス置換特性　　
　　　2.1　実験装置および方法
　　　2.2　実験結果および考察
　3.　流体の流れに逆らう拡散について　　
　4.　まとめ　　
　5.　今後の課題　　
5.　半導体ガス用クリーンボンベシステム　　　
　はじめに　　
　1.　クリーンボンベシステムの開発　　
　2.　クリーンボンベの開発　　
　　　2.1　クリーン化処理(電解複合研磨加工)
　　　2.2　クリーンボンベの洗浄
　3.　クリーン容器弁　　
　　　3.1　クリーン容器弁
　4.　クリーンボンベの問題と対策　　
　　　4.1　頭部表面粗度の問題
　　　4.2　精密洗浄の問題
　　　4.3　クリーンボンベのコスト上の問題
　　　4.4　高圧ガス取締法上の問題
　5.　安全性の確認　　
　　　5.1　弁について
　　　5.2　ボンベ接続部について
　　　5.3　弁のベーキングテスト
　　　5.4　転倒テスト
　　　5.5　リークテスト
　6.　おわりに　　
6.　超高純度ガス・液ガス充填技術　　　
　1.　半導体用材料ガス　　
　　　1.1　各ガスの製造方法
　　　1.2　純度表示に関する取りきめ
　2.　容器内パーティクルの挙動及び水分の挙動　　
　　　2.1　一般高純度ガス容器内のパーティクル
　　　2.2　各容器材質と水分
　3.　高純度ガス充填技術　　
　　　3.1　充填システム
　　　3.2　容器
　　　3.3　ガス充填時のパーティクル状況
　　　3.4　充填ガスの分析結果
　　　3.5　液充填システム
　4.　B2H6等の品質に関する改良　　
7.　クリーンボンベとガス充填技術　　　
　まえがき　　
　1.　ウルトラクリーンボンベの特長　　
　　　1.1　外部リークについて
　　　1.2　パーティクルについて
　　　1.3　接ガス部のウルトラクリーン仕上げ
　　　1.4　パージ弁内蔵新型容器弁について
　　　1.5　高温ベーキングについて
　　　1.6　材質について
　2.　ウルトラクリーンボンベについて　　
　　　2.1　仕様
　　　2.2　構造
　　　2.3　内面粗度
　3.　ウルトラクリーンボンベ用バルブ(DSP-1型)について　　
　　　3.1　仕様
　　　3.2　製造工程
　　　3.3　特長
　　　3.4　ボンベとバルブの組立て図
　　　3.5　バルブ組立て図
　　　3.6　バルブ弁方向とボンベ取付け時の寸法
　4.　ウルトラクリーンボンベの接続法及び操作法　　
　　　4.1　回分パージ方式の場合
　　　4.2　真空パージ方式の場合
　5.　ウルトラクリーンボンベへのガス充填方法　　
　6.　まとめと今後の課題　　
8.　高速置換特性を有するガス配管系と, 流体の流れに逆らう拡散について　　　
　1.　高速置換特性を有するガス配管系　　
　　　1.1　流体の流れとガス置換
　　　1.2　半導体製造プロセス用ガスコンポーネントのガス置換特性
　　　1.3　配管系のガス置換特性
　　　1.4　まとめ
　　　1.5　今後の課題
　2.　流れに逆らう拡散について　　
　　　2.1　緒言
　　　2.2　数値解析
　　　2.3　結論
　　　2.4　今後の課題
9.　パラジウム膜水素純化装置　　　
　1.　はじめに　　
　2.　超高純度水素ガス分析　　
　　　2.1　パラジウム膜水素純化装置
　　　2.2　実験システム
　　　2.3　純化方式の違いによる水素ガス純度
　3.　パラジウム膜水素純化装置の問題点　　
　　　3.1　純化水素ガス中の不純物
　　　3.2　メタン発生のメカニズム
　4.　パラジウム合金膜表面の分析と洗浄効果　　
　　　4.1　ESCAによるパラジウム合金膜表面の分析
　　　4.2　スパッタリングによる深さ方向の元素分析
　　　4.3　大気からのカーボン吸着
　　　4.4　カーボンの結合状態
　　　4.5　酸・アルカリによる洗浄とESCAによる分析
　　　4.6　洗浄, 研磨によるカーボン除去と全炭化水素計による分析
　　　4.7　まとめ
　5.　微量メタン発生量の低減　　
　6.　今後の課題　　
10.　アウトガスフリー耐腐食性ステンレス表面処理技術　　　
　はじめに　　
　1.　不動態化処理　　
　　　1.1　不動態化処理技術
　　　1.2　不動態皮膜の膜質特性
　2.　評価試験結果　　
　　　2.1　アウトガス評価
　3.　まとめ