■体裁:A4版715ページ
■発刊:2000/12/25
■ISBNコード:4-89808-028-6

編集委員長 　
　福見俊夫 通商産業省 大阪工業技術研究所

編集委員
　久保寺憲一 住友大阪セメント
　堀江一之 東京大学 大学院工学研究科

執筆者 　　
　前田三男/九州大学
　原　勝男/浜松ホトニクス
　河田　聡/井上康志 大阪大学
　田和圭子/大阪工業技術研究所
　皆方　誠/静岡大学
　小林孝嘉/東京大学
　岡田修司, 中西八郎/東北大学
　太田浩二/大阪工業技術研究所
　中山斌義/近畿大学
　吉國裕三/NTTフォトニクス研究所
　小山二三夫/東京工業大学
　米津宏雄/豊橋技術科学大学
　廣本宣久/通信総合研究所
　松岡隆志/NTT物性科学基礎研究所
　鷲尾邦彦/日本電気
　石田祐三/富山商船高専
　虎渓久良/HOYA
　渡部俊太郎/東京大学
　大道博行/日本原子力研究所
　原　勝男/浜松ホトニクス
　奥山雅則, 野田　実/大阪大学
　佐藤史郎/NHK放送技術研究所
　清水　誠/NTT光エレクトロニクス研究所
　高橋志郎/HOYA
　魚津吉弘/三菱レイヨン
　山崎成史, 山内良三/フジクラ
　宮　哲雄/NTTエレクトロニクス
　各務　学, 渡辺　修/豊田中央研究所
　村田則夫/NTTアドバンステクノロジ
　皆方　誠/静岡大学
　小松啓郎/日本電気
　水本哲弥/東京工業大学
　谷内哲夫/東北大学
　佐々木孝友/大阪大学
　太田憲雄, 萬　雄彦/日立マクセル
　太田威夫/松下電器産業
　浜田恵美子/太陽誘電
　辻岡　強, 入江正浩/三洋電機　九州大学
　山本　学/NTTサイバースペース研究所
　村瀬至生/大阪工業技術研究所
　保坂純男/日立建機ファインテック
　苗村省平/メルクジャパン
　向殿充浩/シャープ
　別府達郎/地球環境産業技術研究機構
　筒井哲夫/九州大学
　篠田　傳/富士通研究所
　田口貴雄/凸版印刷
　久保寺憲一/住友大阪セメント
　笠原健一/日本電気
　小長井誠, 山田　明/東京工業大学
　橋本和仁/東京大学
　金子正夫/茨城大学
　江刺正喜/東北大学
　笹木敬司/北海道大学
　日暮栄治/NTT通信エネルギー研究所

※所属、肩書き等は本書発刊当時のものです。

【目次】
第1章　光学効果と材料の基礎
1.1　光と物質の相互作用
1.1.1　光と物質の励起状態
1.電磁波と光
2.物質のエネルギ準位
3.物質による電磁波の放出
4.放射の理論
4.1　Einstein係数
4.2　古典論
4.3　半古典論
1.1.2　発光とレーザ
1.光のコヒーレンス
1.1　時間的コヒーレンス
1.2　空間的コヒーレンス
2.レーザの原理
2.1　誘導放出による光の増幅
2.2　レーザ発振器
2.3　光共振器
3.レーザの動作特性
3.1　レーザの励起法
3.2　四準位系レーザの動作解析
1.1.3　光導電と光起電力
1.はじめに
2.光導電
3.光起電力
3.1　p-n接合
3.2　フォトダイオード
3.3　太陽電池
3.4　ショットキー接合
1.1.4　近接場光学
1.エバネッセント場
2.近接場光学顕微鏡
3.プローブ
3.1　微小開口プローブ
3.2　散乱型プローブ
4.プローブの位置制御
5.近接場光学像の観察例
6.近接場顕微分光法
6.1　蛍光1分子の観察
6.2　半導体量子構造の観察
6.3　近接場赤外顕微分光
6.4　近接場ラマン分光
7.光ナノ加工
1.2　光制御光学効果
1.2.1　光学異方性
1.偏光誘起異方性とは
2.光応答機構による分類
2.1　光異性化を利用した偏光誘起異方性
2.1.1　アゾベンゼン誘導体
2.1.2　ジアリルエテンとスピロピラン
2.1.3　バクテリオロドプシン(bR)
2.1.4　phycochrome b
2.2　光二量化を利用した偏光誘起異方性
2.2.1　アントラセン誘導体
2.2.2　ポリビニルシンナメート
2.3　光異性化と液晶性を利用した偏光誘起異方性
2.3.1　液晶性アゾベンゼン側鎖型高分子
2.3.2　アゾベンゼン誘導体と液晶性分子のコポリマー
2.3.3　サンドイッチ型液晶セル
2.4　光二量化と液晶性を利用した偏光誘起異方性
2.4.1　シンナメートを用いた液晶セル
2.4.2　光架橋性高分子を基板とした液晶セル
2.5　光分解と液晶性を利用した偏光誘起異方性
2.6　ラビング膜と液晶性を利用した偏光誘起異方性
2.7　無機材料(カルコゲンガラス)を利用した偏光誘起異方性
3.光学素子としての応用
3.1　表面レリーフ回折格子
3.1.1　高分子フィルム
3.1.2　アゾハイブリッドゲル
3.2　可逆型Optical Strageシステム
3.3　実時間偏光ホログラフィ
3.3.1　バクテリオロドプシン
3.3.2　光応答性分子分散高分子膜
3.4　非線形フィルタ
1.2.2　電気光学効果
1.はじめに
2.シュタルク効果
3.ポッケルス効果(Pockels effect)
3.1　屈折率楕円体
3.2　ポッケルス定数
3.3　結晶の対称性
3.4　光制御デバイスへの応用
4.カー効果(Kerr Effect)
1.2.3　磁気光学効果
1.はじめに
2.磁化された磁性体中の光の伝播
3.ファラデー効果
4.磁気光学材料
1.3　非線形光学効果
1.3.1　非線形光学の基礎
1.非線形光学の簡単な歴史
2.非線形光学研究のテーマ
3.非線形光学の基礎
4.種々の非線形光学効果の分類
5.非線形光学係数の起源(第二高調波発生を例として)
6.実効的な(“effective”)電場と局所的な(“local”)電場
7.非線形特性評価法
7.1　位相整合条件(第二高調波発生を例として)
7.2　DC-SHG法による三次の非線形感受率の測定
7.3　粉末法
8.非線形光学材料
8.1　非線形光学材料の分類
8.2　非線形光学特性を表すいくつかのパラメータ, 性能指数
9.非線形光学過程の研究で注意すべき点
9.1　いろいろな非線形光学過程の並列競合的な発現
1.3.2　縮退四光波混合
1.種々の四光波混合過程
2.縮退四光波混合
3.縮退四光波混合過程の三次の非線形感受率の測定方法
4.過渡回折法による測定
4.1　回折格子法の回折格子形成機構による分類
4.2　回折格子の書き込み過程による分類
4.2.1　平行直線偏光による干渉
4.2.2　直線偏光した二光線の干渉
4.2.3　回折格子の読み出し過程―回折
1.3.3　光カー効果
1.光カー効果
2.干渉計を用いた光カー定数(非線形屈折率)の測定
2.1　単一ショット信号の積算による測定(等傾角干渉縞模様の積算測定による方
法)
2.2　高繰り返しパルスによる測定法
3.光カーゲート法を用いた非線形屈折率の測定
4.光双安定性
4.1　光双安定性と関連の事象
4.2　光双安定素子の種類と構造
4.3　Kerr液体
4.4　液晶
1.3.4　位相共役波発生
1.位相共役波とは
2.縮退四光波混合による位相共役波発生
2.1　Maxwell方程式から結合方程式の導入
2.2　結合方程式の解
2.3　四光波混合とホログラフィとの比較
3.位相共役波発生の応用例
3.1　適応光学系(adaptive optics)
3.2　光共振器
3.3　パワー伝送
3.4　画像伝送
3.5　標的追尾自動制御
3.6　二次元情報処理
4.位相共役波発生が観測され, また応用の期待される種々の非線形光学過程と非線
形光学媒質
4.1　分子配向
4.2　吸収飽和
4.3　利得飽和
4.4　熱効果
4.5　半導体の非線形効果
4.6　光屈折物質
4.7　誘導散乱
1.4　有機非線形光学材料
1.4.1　有機二次非線形光学材料
1.はじめに
2.bの評価
3.分子設計
4.低分子二次非線形光学材料
5.ポリマー二次非線形光学材料
6.フォトリフラクティブ有機材料
7.おわりに
1.4.2　有機三次非線形光学材料
1.はじめに
2.ポリジアセチレン
3.ポリジアセチレン以外の共役ポリマー
4.共役色素
5.共役色素-ポリマー複合体
6.おわりに
1.4.3　分子軌道解析
1.はじめに
2.非線形光学現象の分子論的起源
3.分子軌道法による分子超分極率の計算法
3.1　計算法の分類
3.2　基底関数依存性
3.3　電子相関の影響
3.4　波長分散の影響
4.特性解析法としての分子軌道法
4.1　摂動展開公式を基にした解析
4.2　分子軌道を用いた解析
4.3　空間的な寄与による解析
5.最近の話題
5.1　密度汎関数法による分子超分極率の計算
5.2　分子振動の超分極率への影響
5.3　二光子吸収特性
6.おわりに
1.5　生体関連材料
1.生体硬組織代替材料に求められる諸条件
2.生体硬組織代替材料の作成方法
3.生体親和性の確認

第2章　発光, 受光, 増幅材料
2.1　半導体レーザ, LED材料
2.1.1　半導体レーザ
1.はじめに
1.1　半導体レーザ
2.光通信用半導体レーザ
3.半導体レーザの構造
3.1　ダブルヘテロ構造
3.2　導波構造
3.3　共振器構造
3.4　ファブリペロー(F-P)レーザ
3.5　分布反射型(DBR)レーザ
3.6　分布帰還型(DFB)レーザ
4.レーザ発振の基本原理
5.最近の通信用レーザ
5.1　変調器集積DFBレーザ
5.2　波長可変レーザ
2.1.2　面発光レーザ
1.はじめに
2.面発光レーザの低しきい値化
2.1　小さなレーザ共振器
2.2　酸化膜を用いた光/電子の閉じ込め
3.低しきい値素子の発振特性
4.面発光レーザのモード制御
5.青色から近赤外域の面発光レーザ
6.面発光レーザの応用
6.1　光データリンク
6.2　光データストレージ
7.むすび
2.1.3　光情報機器用近赤外光源
1.光情報機器と半導体レーザ
2.光情報機器応用に求められる半導体レーザの特性
2.1　戻り光による過剰雑音の発生
2.2　高出力限界-光学損傷-
3.高性能化のためのレーザ構造と特性
3.1　多数縦モード発振
3.2　高出力化
4.面発光レーザ(VCSEL)アレイとOEICへの応用
2.1.4　赤外線空間通信と光源
1.赤外線空間通信の特長と役割
2.赤外線通信インターフェース
3.室内赤外線ワイヤレス通信
4.屋外赤外線空間通信
4.1　大気中の赤外線伝送特性
4.2　中距離赤外空間LAN
5.アイセイフ赤外線空間通信
5.1　赤外レーザとLEDの安全性
5.2　アイセイフ赤外線通信デバイス
6.衛星間光通信
2.1.5　可視, 青色, 紫外光源
1.まえがき
2.発光素子の構成材料と素子構造
3.従来の半導体可視発光素子
4.新しい半導体発光素子
4.1　II-VI族発光デバイス
4.1.1　発光ダイオード
4.1.2　レーザ
4.2　III族窒化物発光デバイス
5.むすび
2.2　最近の固体, 気体, 色素レーザとその材料
2.2.1　LD励起固体レーザ
1.はじめに
2.LD励起固体レーザ材料
3.1.0～1.4 mm帯LD励起固体レーザ
3.1　LD励起Nd:固体レーザ
3.1.1　Nd:YAGのエネルギ準位と蛍光スペクトルおよび異波長帯のレーザ発振
3.1.2　1.06 mm帯高平均出力Nd:YAGレーザ
3.1.3　高ピーク出力Qスイッチ発振Nd:YAGレーザ
3.1.4　ミニアチュアNd:固体レーザ, マイクロチップNd:固体レーザ
3.2　LD励起Yb:固体レーザ
4.1.5～3 mm帯レーザ
4.1　1.5 mm帯LD励起固体レーザ
4.2　2～3 mm帯LD励起固体レーザ
2.2.2　波長可変レーザ
1.はじめに
2.色素レーザ
3.カラーセンタレーザ
4.波長可変新固体レーザ
2.2.3　フェムト秒レーザ
1.はじめに
2.超短光パルス発生法
3.各種モード同期レーザ
3.1　衝突モード同期リング色素レーザ
3.2　シンクロナスモード同期色素レーザ
3.3　カーレンズモード同期チタンサファイアレーザ
4.サブ10 fsチタンサファイアレーザ
5.LD励起全固体小型フェムト秒固体レーザ
6.広帯域波長可変レーザシステム
7.外部圧縮法による超短パルス発生
7.1　光ファイバによるパルス圧縮
7.2　高次非線形過程による極短パルス圧縮
2.2.4　アップコンバージョン
1.はじめに
2.アップコンバージョン発光機構
3.発光効率の支配因子
4.ホストの影響
5.レーザ発振
6.おわりに
2.2.5　エキシマレーザ
1.はじめに
2.エキシマレーザ装置
3.長寿命化
3.1　ガス寿命の改善
3.2　装置寿命
3.2.1　スイッチ素子
3.2.2　電極と予備電離
3.3　窓・光学素子の寿命
4.高繰り返し化
5.高エネルギ高出力レーザ
6.エキシマレーザ制御
6.1　リソグラフィ用狭帯域レーザ
6.2　超短パルス高出力レーザ
7.結び
2.2.6　X線レーザ
1.X線レーザとは
2.各種X線レーザの現状
2.1　電子衝突励起型軟X線レーザ
2.2　小型短パルスレーザ励起軟X線レーザ
3.まとめ
2.3　受光材料
2.3.1　各種材料と受光波長
1.光導電材料
2.光起電力材料
3.外部光電効果
4.熱型
2.3.2　高速受光素子
1.応答速度
2.PINフォトダイオード
3.アバランシェフォトダイオード(APD)
4.MSM検出器
5.その他の検出器
2.3.3　室温動作赤外線センサ
1.はじめに
2.室温動作赤外線センサの種類
2.1　ゴーレイセル
2.2　サーモパイル
2.3　ボロメータ
2.4　焦電型センサ
2.4.1　動作原理
2.4.2　焦電セラミック材料
2.4.3　焦電センサの具体例(ポイントセンサ)
3.アレイセンサ
3.1　リニアアレイセンサ
3.1.1　バルク型リニアアレイセンサ
3.1.2　薄膜リニアアレイセンサ
3.2　二次元アレイセンサ
3.2.1　焦電型イメージセンサ
3.2.2　電界誘起焦電(誘電ボロメータ)型イメージセンサ
3.2.3　抵抗ボロメータ型イメージセンサ
3.2.4　サーモパイル型イメージセンサ
3.2.5　Siダイオードアレイセンサ
4.おわりに
2.3.4　CCD撮像素子
1.CCDの構造と基本動作
2.感度
3.基板結晶とプロセス技術
3.1　画像欠陥とSiの結晶欠陥
3.2　重金属の効果
4.受光層のヘテロ堆積による高感度化
4.1　CCD上への非晶質シリコン(a-Si)の堆積
4.2　MOS上への HARP膜の堆積
4.3　a-Si光電変換膜における信号電荷のアバランシェ増倍
4.4　超格子構造を応用した光電変換膜
5.まとめ
2.3.5　撮像管
1.撮像管の種類
2.ビジコン型撮像管の構造と動作原理
3.光導電膜に求められる特性
3.1　高量子効率
3.2　低残像
3.3　低暗電流
4.光導電膜材料例
4.1　三硫化アンチモン(Sb2S3)
4.2　酸化鉛多結晶体(PbO)
4.3　セレン化カドミウム(CdSe)
4.4　カドミ化亜鉛(ZnxCd1-xTe)
4.5　シリコン結晶(Si)
4.6　水素化非晶質シリコン(a-Si : H)
4.7　非晶質セレン(a-Se)
5.今後の開発動向
2.4　光増幅材料
2.4.1　光ファイバ増幅器と材料
1.はじめに
2.Er添加光ファイバ増幅器(EDFA)
2.1　EDFAの増幅原理
2.2　EDFAの利得特性
3.Pr添加光ファイバ増幅器(PDFA)
4.Tm添加光ファイバ増幅器(TDFA)
5.まとめ
2.4.2　半導体光増幅器
1.はじめに
2.半導体光増幅器の特性
3.半導体光増幅器の構造
4.光増幅器の応用
4.1　高出力光増幅器
4.2　半導体光デバイスとのモノリシック集積化
4.3　波長変換への応用
4.4　雑音抑圧や再生中継器への応用
4.5　光ゲート・スイッチ
5.むすび

第3章　光伝送路材料
3.1　光ファイバ材料
3.1.1　石英系ガラスファイバ
1.光ファイバの構造と損失要因
2.石英系ガラスファイバの作製法
3.石英系ガラスファイバの諸特性
4.分散補償ファイバ
3.1.2　中・遠赤外用光ファイバ
1.中・遠赤外用光ファイバ材料
2.重金属酸化物ガラス光ファイバ
3.フッ化物系ガラス光ファイバ
4.カルコゲン化物系ガラス光ファイバ
3.1.3　プラスチック光ファイバ
1.はじめに
2.POFの基本特性
2.1　POFの構造と特徴
2.2　POF用ポリマー素材
2.2.1　コア用ポリマー
2.2.2　クラッド用ポリマー
2.3　POFの製造方法
3.POFの開発動向
3.1　低損失化
3.2　耐熱性の向上
3.3　伝送帯域特性の向上
3.4　POFの多機能化
3.4.1　画像伝送用POF
3.4.2　プラスチックロッドレンズ
3.4.3　アクティブプラスチック光ファイバ
3.2　光導波路, 光回路材料
3.2.1　光ファイバ回路部品と材料
1.はじめに
2.光ファイバカプラ
2.1　構造および作製方法
2.2　光ファイバカプラの種類
2.2.1　スプリッタ
2.2.2　WDM型光ファイバカプラ
2.2.3　偏波保持カプラ
3.ファイバグレーティング
3.1　短周期型FG(FBG)
3.1.1　光合分波器
3.1.2　分散補償素子
3.1.3　LD外部共振用素子
3.2　長周期ファイバグレーティング(LPFG)
3.2.2　ガラス導波路と光回路
1.はじめに
2.石英系PLCの概要
3.導波路形成技術
4.光回路設計技術
5.実装技術
6.ハイブリッドPLCに特有な技術
6.1　プラットフォーム形成技術
6.2　光半導体素子搭載技術
7.信頼性技術
8.代表的なPLC部品
8.1　要素回路
8.2　スプリッタ, WINC, スターカプラ
8.3　光スイッチ
8.4　アレー導波路型合分波器(AWG)
8.5　ハイブリッドPLC
8.5.1　ONU
8.5.2　多波長光源
8.5.3　高速波長セレクタ
8.5.4　光電子ハイブリッド集積受信モジュール
9.将来への展開
3.2.3　ポリマー光導波路と応用
1.ポリマー光導波路材料
2.ポリマー光導波路の作製
3.導波損失の測定
4.受動型ポリマー光回路
5.能動型ポリマー光回路
3.2.4　光学接着剤
1.はじめに
2.光部品組立における接着技術
3.光路接合用光学接着剤
3.1　光学接着剤の屈折率設計と屈折率制御
3.2　UV硬化型光路接合用光学接着剤の主な特性
3.3　光学的結合部の接着信頼性
3.4　光路接合用光学接着剤の応用
4.光部品固定用接着剤
4.1　精密固定接着剤の主な特性
4.2　精密接着剤の応用
5.高硬度・耐熱性接着剤
6.光部品用接着シール材料
6.1　光部品用接着シール材の主な特性
6.2　接着シール材の光部品への応用
7.おわりに

第4章　光制御材料
4.1　光変調, 光スイッチ材料
4.1.1　誘電体光変調器, 光スイッチ
1.はじめに
2.バルク形光変調器
3.光導波路形光変調器
4.光スイッチ/光変調器の種類
5.高速・広帯域光変調器
4.1.2　半導体光変調器, 光スイッチ
1.光変調器
1.1　電界吸収型光変調器
1.2　光変調器集積化DFBレーザ
1.3　Mach-Zehnder変調器
2.光スイッチ
2.1　電流注入型光スイッチ
2.2　方向性結合器型光スイッチ
2.3　半導体光増幅器ゲート型光スイッチ
4.2　光非相反素子材料
1.光非相反素子の概要
2.光非相反素子の動作原理
2.1　バルク形光アイソレータ
2.2　ファイバインライン形光アイソレータ
2.3　バルク形光サーキュレータ
2.4　導波路形光アイソレータ
2.5　導波路形光サーキュレータ
3.磁気光学材料と光非相反素子の特性
3.1　希土類鉄ガーネットの結晶成長技術
3.2　磁気光学材料と光非相反素子の特性
4.3　波長変換材料
4.3.1　無機波長変換素子
1.はじめに
2.SHG材料・デバイス
3.光パラメトリック発振デバイス
4.3.2　有機波長変換素子
1.はじめに
2.有機非線形光学材料開発の歴史
2.1　有機低分子結晶
2.2　ポールドポリマー
3.デバイス化のための問題点
3.1　結晶表面加工
3.2　結晶表面処理
4.有機イオン性結晶例
4.1　NPNa結晶
4.2　DAST結晶
5.有機材料を用いたSHGデバイス
5.1　複屈折を利用した例
5.2　チェレンコフ放射方式の例
5.3　内部共振器方式の例
5.4　擬位相整合方式
6.まとめ

第5章　光メモリ材料
5.1　光磁気ディスク
1.光磁気ディスクの種類
2.ディスク構成と記録再生方式
3.高密度記録を支える媒体技術と問題点
4.次世代技術と今後の展開
5.2　相変化型光ディスク
1.光メモリ媒体の役割
2.相変化光オーバライトメモリの原理
3.相変化現象
3.1　ガラスの形成とガラス状態
4.カルコゲナイド相変化材料
4.1　カルコゲン化材料の結合の種類
4.2　Ge-Teの相図
4.3　各種カルコゲナイド相変化光ディスク材料
5.相変化光ディスクの構成材料
5.1　高速結晶化アモルファス材料
5.2　相変化光ディスク用誘電体保護膜材料
6.相変化光ディスクのオーバライト特性
6.1　相変化光ディスクの構造と特性
7.相変化光ディスクの高温・高湿環境寿命特性
7.1　アレニウス法(Arrehenius method)
7.2　相変化光ディスクの加速環境寿命試験結果
8.相変化光ディスクの高密度化
8.1　光学系による高密度化と薄型基板DVD光ディスク
8.2　相変化光ディスクの記録密度の現状
8.3　相変化光ディスクと光磁気ディスクの高密度化技術の差異
8.4　相変化光ディスクの短波長レーザ応答性と記録密度の拡張
8.5　書き換え型相変化2層ディスク
8.6　相変化多値記録方式
8.7　相変化光ディスクの記録密度の拡張性
9.相変化光ディスクのデータ転送の高速化
9.1　高速化の必要性
9.2　相変化光ディスクへの高速記録
10.むすび
5.3　追記型ディスク
1.追記型光ディスクの記録方式と原理
2.CD-R
2.1　CD-Rの構造と原理
2.2　CD-Rの構成材料の例と要求性能
2.3　ディスクと材料の評価すべき項目
3.DVD-R
3.1　DVD-Rの構造と原理
3.2　DVD-Rの構成材料の例と要求性能
3.3　ディスクと材料の評価すべき項目
4.今後の展開
5.4　フォトクロミック型メモリ
1.はじめに
2.フォトクロミック分子材料
2.1　特徴
2.2　フォトクロミック反応とは
2.3　フォトクロミック分子の光メモリ用材料としての基本性能
2.3.1　分子材料の安定性
2.3.2　繰り返し耐久性
2.3.3　非破壊読み出し
2.3.4　薄膜形成の容易性
3.高密度光メモリへの応用
3.1　超解像光ディスク
3.2　波長多重記録
3.3　三次元光メモリ
3.4　近接場光メモリ
4.おわりに
5.5　フォトリフラクティブ材料
1.まえがき
2.記憶媒体
2.1　フォトリフラクティブ記憶材料
2.2　記憶方式と性能
2.2.1　多重記録方式
2.3　記憶材料としての課題
2.3.1　定着技術
2.3.2　パワースケジューリング記録
3.ディジタルホログラム記録
4.あとがき
5.6　PHB
1.PHBとは
2.PHBを示す材料と局所プローブ
3.高温PHB材料
4.高密度光記録
5.最近の話題
6.まとめ
5.7　近接場光メモリ
1.はじめに
2.SILを用いた光記録
3.SNOMを用いたナノメータ記録
3.1　SNOMによる光磁気記録
3.2　半導体レーザを用いたSNOM相変化記録
3.3　高速記録
4.スライダ搭載型光ヘッドを用いた回転型記録装置
4.1　フラット型スライダヘッド
4.2　四角錐型スライダヘッド
5.Super-RENSを用いた近接場光記録
6.その他の近接場光記録
7.まとめ

第6章　表示用材料
6.1　液晶材料
1.液晶分子と相構造
2.液晶媒質中の光の伝播と複屈折性
3.液晶表示の原理
4.液晶材料の光学物性
4.1　混合材料の屈折率
4.2　秩序変数
4.3　分極率
4.4　屈折率異方性
4.5　屈折率の波長分散
5.代表的な液晶化合物の光学的性質
5.1　電子分極率と屈折率
5.2　屈折率分散
6.2　液晶ディスプレイ
1.はじめに
2.液晶ディスプレイの原理
2.1　液晶ディスプレイの基本構成
2.2　電界による液晶のスイッチング
2.3　液晶の配向
2.4　TN液晶表示方式の原理
3.液晶ディスプレイの表示方式
4.液晶ディスプレイの駆動方式
5.カラー表示の方式
6.液晶表示モード
6.1　DSM (Dynamic Scattering Mode:動的散乱モード)
6.2　ECB(Electrically Controlled Birefringence:電界制御複屈折方式)
6.3　GH(Guest-Host:ゲストホスト方式)
6.4　高分子分散型液晶(PDLC:Polymer Dispersed Liquid Crystal)
6.5　IPS(In-Plane Switching:インプレインスイッチング方式)
6.6　ASM(Axially Symmetric Micro cell:軸対称マイクロセル方式)
6.7　FLC(Ferroelectric Liquid Crystal:強誘電性液晶)
6.8　AFLC(Anti-Ferroelectric Liquid Crystal:反強誘電性液晶)
6.9　その他
6.3　発光ダイオード
1.はじめに
2.LEDの発光機構
3.各種の発光ダイオード(特性・製法)
3.1　GaP赤色, 緑色LED
3.2　GaPxAs1-x系 赤色, 橙色, 黄色LED
3.3 　AlxGa1-xAs系 赤色LED
3.4　 InGaAlP赤色～黄緑色LED
3.5　InGaN 緑色～青色LED
4.LEDディスプレーの形式
4.1　パイロットランプ
4.2　モノリシック型ディスプレー
4.3 　ハイブリッド型ディスプレー
4.4　LEDディスプレーの駆動方式
5.むすび
6.4　ELディスプレイ
1.はじめに
2.無機ELディスプレイ
2.1　動作原理と用いる材料
3.有機ELディスプレイ
3.1　動作原理
3.2　低分子系材料
3.2.1　正孔注入輸送材料
3.2.2　電子注入輸送材料
3.2.3　発光材料
3.2.4　三重項発光材料
3.3　高分子系材料
3.3.1　主鎖p共役高分子材料
3.3.2　その他の高分子材料
3.4　ディスプレイの開発と実用化
6.5　プラズマディスプレイ
1.はじめに
2.カラーPDPの駆動原理
2.1　基本原理
2.2　サブピクセル(副画素)の選択原理
3.PDPの物理
3.1　放電現象
3.2　保護膜の物性
3.3　発光現象
4.PDP技術
4.1　パネル構造
4.2　駆動方法
5.パネルの製作プロセス
6.大画面カラーPDP
7.おわりに
6.6　ホログラム
1.はじめに
2.ホログラフィの原理
3.ホログラフィの分類
4.ホログラム記録に必要な条件
4.1　解像度
4.2　回折効率
4.3　感度, ダイナミックレンジ
4.4　ノイズ
4.5　その他
5.ホログラム記録材料の実際
5.1　振幅型ホログラム
5.2　表面レリーフ型ホログラム
5.3　体積型ホログラム
6.ホログラムへの応用
6.1　LCD用反射板
6.2　メモリ材料
7.おわりに

第7章　光情報処理材料
7.1　非線形光学スイッチ
1.三次非線形光学効果と全光形光スイッチ
2.種々の三次非線形光学材料
3.非線形エタロン形光双安定素子
3.1　非線形エタロン形光双安定素子の原理
3.2　半導体エタロン素子
3.3　その他の光双安定素子
4.高速光ゲート光スイッチ
4.1　非線形光ゲート光スイッチの原理
4.2　ガラスファイバ光スイッチ
4.3　有機光スイッチ
4.4　半導体高速非線形光スイッチ
7.2　光情報・信号処理素子
1.はじめに
2.並列光情報処理素子
2.1　自己電気光学効果デバイス
2.2　面入出力光電融合デバイス
3.超高速光信号処理素子
3.1　OTDMのシステム構成と必要な光信号処理機能
3.2　双安定半導体レーザ
3.3　光スイッチ素子
3.4　光クロック抽出素子
3.5　モード同期半導体レーザを用いた光DEMUX/3R
4.むすび

第8章　光変換材料
8.1　太陽電池
1.環境問題と太陽光発電
2.太陽電池の動作原理
2.1　太陽電池の変換効率
2.2　太陽電池モジュール
3.太陽電池材料
3.1　太陽電池の分類
3.2　多接合太陽電池
4.太陽電池の生産量
5.太陽電池の研究開発目標
6.シリコン太陽電池
7.アモルファスシリコン太陽電池
7.1　アモルファスシリコンの製法
7.1.1　プラズマCVD法
7.1.2　光CVD法
7.2　アモルファスの物性
7.3　太陽電池構造
8.結晶シリコン系薄膜太陽電池
8.1　微結晶Si太陽電池
8.2　多結晶Si薄膜太陽電池
9.化合物系薄膜太陽電池
9.1　Cu(InGa)Se2薄膜太陽電池
9.2　CdTe太陽電池
10.超高効率太陽電池
8.2　光触媒
1.はじめに
2.光触媒反応のメカニズム
2.1　はじめに
2.2　O2-の挙動
2.3　・OHの挙動
2.4　おわりに
3.光触媒反応の応用例1-抗菌・殺菌効果
3.1　はじめに
3.2　抗菌評価方法
3.3　抗菌評価結果
3.4　他の細菌を対象にした際の抗菌効果
3.5　抗菌効果と活性酸素種
3.6　種々の反応条件下での抗菌効果
3.7　抗菌評価中の大腸菌細胞の変化
3.8　抗菌効果を利用した実用例
4.光触媒反応の応用例2-水処理への応用(TiO2/オゾン併用処理)
4.1　はじめに
4.2　ハイブリッド法の原理
4.3　モデル排水での検証
4.4　実排水での検証
4.5　今後の展開
5.光触媒反応の応用例3-光誘起超親水性
5.1　はじめに
5.2　酸化チタン表面の超親水性
5.3　光誘起親水化の機構
5.4　光誘起親水化材料
5.5　光誘起親水化材料の応用例
6.おわりに
8.3　人工光合成
1.はじめに
2.光合成反応
2.1　光合成と地球上のエネルギ循環-分子オプトロニクス-
2.2　分子レンズとしてのアンテナクロロフィル
2.3　光電荷分離
2.4　水の酸化触媒
2.5　二酸化炭素の固定還元
2.6　電子伝達
3.人工光合成系における分子材料
3.1　人工光合成モデル
3.2　水の酸化触媒
3.2.1　金属またはその酸化物触媒
3.2.2　金属錯体触媒
3.3　二酸化炭素の還元触媒
3.3.1　触媒化学系
3.3.2　光触媒化学系
3.3.3　光電気触媒化学系
3.4　プロトンの還元触媒
3.5　分子間電荷移動
3.6　光励起状態における電子移動と酸素/水素の光生成モデル材料
3.7　分子や微粒子による光半導体的プロセス
4.新しい光化学電池
5.おわりに
8.4　光マイクロマシン
8.4.1　光マイクロマシン総論
1.はじめに
2.光マイクロマシンの特長と微細加工
2.1　特長
2.2　光マイクロマシンに特有な微細加工
3.微細構造体の光応用と光集積化
3.1　近接場光プローブ
3.2　光ファイバ先端センサ
3.3　エッチトミラーレーザによる光集積化
3.4　光学素子を基板に立てた自由空間型光集積ベンチ
4.機械的運動による光制御
4.1　可動鏡
4.2　可変間隔の回折格子およびフィルタ
5.おわりに
8.4.2　マイクロ光マニピュレータ
1.はじめに
2.レーザ走査マニピュレーション
3.分子・分子集合体の光マニピュレーション
8.4.3　マイクロ光アクチュエータ
1.はじめに
2.電気, 化学エネルギ変換型光アクチュエータ
3.熱エネルギ変換型光アクチュエータ
3.1　光熱効果の利用
3.2　光熱により磁力, 静電力を制御
4.直接力変換型光アクチュエータ
4.1　光圧回転駆動
4.2　光圧角度アライメント
5.まとめ