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CDMA技術の基礎から応用まで

販売価格(税込): 36,300
■体裁:A4版140ページ
■発刊:1999/11/28
■ISBNコード:4-89808-019-7
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偏波レーダの基礎と応用

販売価格(税込): 36,300
■体裁:A4版189ページ
■発刊:1998/04/30
■ISBNコード:4-89808-006-5
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Gビット時代へのリソグラフィ技術

販売価格(税込): 11,000
■体裁:A4版174頁
■発刊:1995/03/28
■ISBNコード:4-89808-051-0
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半導体用特殊ガス供給システムデザインマニュアル

販売価格(税込): 27,500
■体裁:B5版335ページ
■発刊:1999/01/28
■ISBNコード:4-89808-013-8
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バイオレメディエーション実用化への手引き

販売価格(税込): 49,500
■体裁:A4判、377ページ
■発刊:2001年6月
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シリコン結晶・ウェーハ技術の課題

販売価格(税込): 41,800
■体裁:B5版346ページ
■発刊:1994/01/28
■ISBNコード:4-947655-65-8
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SOI CMOSデバイスの基礎と応用

販売価格(税込): 35,200
■体裁:A4版113ページ
■発刊:1999/10/28
■ISBNコード:4-89808-018-9
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静音設計と騒音防止・利用技術

販売価格(税込): 38,500
■体裁:B5判、428頁
■発刊:1993年2月
■ISBNコード:
※オンデマンド印刷版となります為、掲載画像とお届けする商品の表紙デザインは異なります。ご了承ください。
なお、本文内容に変更はございません。
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微細加工と表面機能 ナノ・マイクロ構造による光学,摩擦,ぬれ等の機能実現

販売価格(税込): 66,000
■発行:リアライズ理工センター/リアライズAT(株)
■体裁:A4版/約300頁
■発刊:2007/05/31
■ISBNコード:978-4-89808-081-8
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ナノインプリントにおける離型問題の評価とその対策

販売価格(税込): 30,800
■体裁:A4版/80頁
■発刊:2010/05/20
■ISBNコード:978-4-89808-105-1

Technology Directionシリーズ
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ULSI製造における汚染の実態

販売価格(税込): 57,200
■体裁:A4版475ページ
■発刊:1999/07/28
■ISBNコード:4-89808-017-0
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高分子表面・界面分析法の新展開

販売価格(税込): 77,000
■体裁: B5判、394ページ
■発刊:2009/03
■ISBNコード: 978-4-7813-0103-7
■シーエムシー出版
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先端ガラスの産業応用と新しい加工

販売価格(税込): 71,500
■体裁: B5判、334ページ
■発刊:2009/08
■ISBNコード: 978-4-7813-0152-5
■シーエムシー出版
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高性能半導体プロセス用分析・評価技術

販売価格(税込): 31,900
■体裁:B5版233ページ
■発刊:1992/05/28
■ISBNコード:4-947655-53-4
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半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策

販売価格(税込): 49,500
■体裁:B5版222ページ
■発刊:1992/02/28
■ISBNコード:4-947655-50-X
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